蘋(píng)果將為iPhone采用屏下Touch ID和Face ID的消息已經(jīng)不是第一次聽(tīng)到了。最近,蘋(píng)果通過(guò)美國(guó)專(zhuān)利商標(biāo)局獲得了一項(xiàng)新專(zhuān)利,可以用于屏下Face ID和Touch ID未來(lái)有望能看到蘋(píng)果能發(fā)布沒(méi)有劉海屏的真全面屏。
專(zhuān)利文檔顯示,蘋(píng)果考慮將TouchID和Face ID深度集成到屏幕內(nèi)。
光學(xué)成像陣列位于屏幕后面,可定向接收通過(guò)屏幕傳來(lái)的光線,與屏幕發(fā)光的方向相反。
介紹中提到的光學(xué)成像陣列,適用于成像、感測(cè)或數(shù)據(jù)聚合等,包括但不限于環(huán)境光感測(cè)、近距、深度感應(yīng)、結(jié)構(gòu)光、光通信、生物特征成像(例如指紋成像、虹膜成像、面部識(shí)別等)。
這項(xiàng)專(zhuān)利意味著,屏幕可能會(huì)有一部分"通過(guò)不透明的背板定義的成像孔",蘋(píng)果稱(chēng)之為“光圈”。
為了能夠正常使用Touch ID和Face ID,這塊“光圈”區(qū)域的屏幕像素密度比其余部分要低一些。
還有一種可能,就是在使用Touch ID和Face ID時(shí),這塊“光圈”區(qū)域的像素才會(huì)降低,在不使用時(shí),像素密度和其它區(qū)域一致。
在這份14000字的專(zhuān)利報(bào)告中,蘋(píng)果還提及了此專(zhuān)利也可用于MacBook上。
不過(guò),蘋(píng)果已經(jīng)擁有不少屏下Touch ID和Face ID識(shí)別專(zhuān)利,將來(lái)會(huì)采用哪一種尚未可知。
蘋(píng)果計(jì)劃于今年9月24日發(fā)布新iPhone,依然會(huì)采用劉海屏和Face ID單生物識(shí)別方案,短期內(nèi)是看不到同時(shí)采用Touch ID和Face ID識(shí)別方案的新機(jī)發(fā)布了,不過(guò)有消息稱(chēng)iPhone SE 3 Plus可能會(huì)采用電源指紋識(shí)別方案。
【來(lái)源:快科技】【作者:隨心】
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